Ионный источник Кауфмана

  • Просмотров 1771
  • Скачиваний 34
  • Размер файла 260
    Кб

МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ИНСТИТУТ СТАЛИ И СПЛАВОВ (ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ) РЕФЕРАТ Ионный источник Кауфмана Студент: Преподаватель: . Научный руководитель: Москва 1999 СОДЕРЖАНИЕ ВВЕДЕНИЕ 3 1. Oсновные параметры плазменных ионных источников 4 2. принцип действия и основные эксплуатационные особенности источника Кауфмана 7 3. Модификации источника Кауфмана и тенденции его развития 12 4. Применение ионных источников в

технологии 13 заключение 16 СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 18 ВВЕДЕНИЕ Ионные источники – устройства для получения направленных потоков ионов. Ионные источники применяются в ускорителях, масс-спектрометрах, ионных микроскопах, установках разделения изотопов, ионных ракетных двигателях. Быстро расширяющаяся область технологических применений источников ионов - это оборудование ионно-лучевой обработки материалов (операции

финишной очистки поверхности ИС, имплантации, распыление металлических и диэлектрических материалов, травление микроструктур и т.д. ) Существует несколько способов генерации ионных пучков: генерация ионных пучков путем бомбардировки поверхности твердого тела потоком атомов (поверхностная ионизация), исследовательских установках применяют источни­ки с ионизацией атомов на разогретой поверхности твер­дых тел и т.д.

Однако, наиболее перспективный способ генерации ионных потоков основан на извлечении ионов из плазмы. Газоразрядная плазма является эффективным эмиттером свободных ионов. Следует отметить, что именно плазменные ионные источники нашли широкое применение в различных областях научных исследований и в современном технологическом промышленном оборудовании. В настоящей работе рассмотрен плазменный ионный источник - источник

Кауфмана, применяемый в технологии микроэлектроники и имеющий широкие перспективы развития. В первой главе рассмотрены основные параметры ионных источников. Далее рассмотрен конкретно источник Кауфмана и применение ионных источников в технологии микроэлектроники. 1. Oсновные параметры плазменных ионных источников Основными конструктивными элементами плазменных источников ионов являются: разрядная камера; катодный узел;